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論文

Uniform Si nano-dot fabrication using reconstructed structure of Si(110)

矢野 雅大; 魚住 雄輝*; 保田 諭; 朝岡 秀人

Japanese Journal of Applied Physics, 57(6S1), p.06HD04_1 - 06HD04_4, 2018/06

 被引用回数:4 パーセンタイル:19.87(Physics, Applied)

We have observed oxide decomposition process on Si(110). We have succeeded to observe metastable area and state by means of scanning tunneling microscope (STM) and X-ray photoemission spectroscopy (XPS), respectively.

論文

Effects of the non quasi steady state on the emission lines in plasmas

加藤 隆子*; 森林 健吾*; 村上 泉*; 大平 光彦*; 久保 博孝; 清水 勝宏

Proc. of 1996 Int. Conf. on Plasma Physics, 1, p.730 - 733, 1996/00

JT-60Uでは、ダイバータ・プラズマにおいて炭素イオンが発する可視光の絶対強度分布を測定している。今までの研究では、CIIおよびCIVについては密度効果を考慮した励起機構によって測定された強度分布がよく説明できたが、CIIIについては計算結果と食い違いがあった。本研究では、CIIIについては準安定状態にあるイオンが基底状態にあるイオンより多いことに着目し、準安定状態および時間発展を考慮したレート方程式によってイオンの存在率を計算した。その結果、CIIIの準安定状態がCIIの基底状態の内殻電離によって生成され長時間存在することがわかった。これにより、JT-60Uで測定されたCIIIの線強度分布が説明できた。

論文

Effects of the non quasi steady state on the emission lines in plasmas

加藤 隆子*; 久保 博孝; 清水 勝宏

Proc. of 1996 Int. Conf. on Plasma Physics, Vol.1, p.730 - 733, 1996/00

JT-60Uのダイバータプラズマでは、炭素イオンの可視発光線の絶対強度分布を測定している。そこでは、CIIIの線強度が、プラズマからの発光線強度を解析する場合に一般的である準平衡状態で説明できないことが示された。我々は、CIIIの準安定準位のポピュレーションが基底準位のポピュレーションより大きいことに注目し、準安定準位を含めてイオン存在率の時間変化を計算した。ここで得られた線強度は、準平衡モデルによって得られた結果の約1/3となり、JT-60Uにおける測定値と準平衡モデルを用いた解析結果の相違が説明できた。

論文

Numerical simulation for metastable states' deexcitation in electron beam evaporation process

西村 昭彦; 柴田 猛順

Journal of Nuclear Science and Technology, 32(9), p.905 - 911, 1995/09

 被引用回数:2 パーセンタイル:28.04(Nuclear Science & Technology)

原子法レーザー同位体分離(AVLIS)では、原子蒸気発生のために電子ビーム蒸発が使用されている。このプロセスの数値計算のために、直接シミュレーションモンテカルロ(DSMC)法を改良した。DSMC法に単純統計モデルを組込むことで、蒸発原子の並進運動と準安定準位間のエネルギー移動を表現した。Gdの5つの準安定準位を計算対象にした。計算結果とレーザー吸収分光法により求めた実験結果との比較により、準安定準位と並進運動間のエネルギー移動が生じるのは衝突ペアの全エネルギーがあるしきい値を超えた場合であることが判明した。本計算コードを改良発展させることで、原子法レーザー同位体分離の蒸発プロセス全体を把握できることが期待できる。

論文

Measurement of metastable population in gadolinium atomic beam by resonance photoionization

小倉 浩一; 柴田 猛順

Journal of the Physical Society of Japan, 63(3), p.834 - 838, 1994/03

 被引用回数:2 パーセンタイル:46.01(Physics, Multidisciplinary)

電子ビーム加熱蒸発により生成したガドリニウム原子ビーム中の原子の準安定準位密度を共鳴光イオン化を用いて測定した。準安定準位密度はボルツマン分布をしており原子励起温度を決めることができた。原子励起温度は蒸発面温度よりもはるかに低く、原子ビームの並進温度と非常に近かった。これは、蒸発面近傍で蒸発原子が真空中へ膨張冷却するとき原子の運動エネルギーのエネルギー交換速度が速いことを示していると考えられる。

論文

Metastable states population densities in Gd atomic beam at high-rate evaporation by electron beam heating

西村 昭彦; 有澤 孝; 大場 弘則; 柴田 猛順

J. Vac. Sci. Technol., A, 11(4), p.1516 - 1521, 1993/07

原子法レーザー同位体分離の実用化のためには、電子ビーム加熱により発生させた原子蒸気の特性を知ることが重要である。ここでは、低いエネルギーの準安定準位分布を多く有するガドリニウムを用いて、レーザー光照射部の原子密度が10$$^{12}$$個/cm$$^{3}$$オーダーの高い密度下においてレーザー光吸収により準安定準位密度分布の測定を行ない以下の特性を明らかにした。1.準安定準位密度分布から求めた原子励起温度は蒸発面温度より遙かに低く、蒸発速度の増加につれてさらに低下し500K程度となる。2.原子蒸気中には高真空中への急激な膨張によるクラスター生成の可能性はほとんどない。

論文

Metastable dissociation of multiphoton-ionized xenon clusters

山田 康洋; 高柳 敏幸; 古川 勝敏; 大野 新一

Rapid Commun. Mass Spectrom., 5, p.303 - 306, 1991/00

 被引用回数:1 パーセンタイル:10.15(Biochemical Research Methods)

キセノン気体のジェット噴射により生成するXeクラスターを多光子(266nm)イオン化させ、その分解過程(Xen$$^{+}$$$$rightarrow$$Xe$$_{n-1+}$$+Xe;n=2~19)をTOF質量分析計を用いて研究した。分解速度はクラスターの大きさnに依存し、nの大きさとともに増大すること、とくにn=14のときに分解速度が大きいことなどが判った。

報告書

A Proposal of Steam Table Including Metastable States

原見 太幹; 秋元 正幸; 平野 雅司; 金沢 昌之*

JAERI-M 83-116, 51 Pages, 1983/07

JAERI-M-83-116.pdf:1.08MB

安定状態並びに準安定状態の水の物理量を含む蒸気表が作成された。準安定状態の水の特性は、IFCの式を準安定領域に外挿して得られた。各々の相に対応する2つの蒸気表が作成された。蒸気表は、温度、圧力、比体積、比内郡エネルギー、比エンタルピー、熱膨張係数、定温圧縮率、定圧比熱の熱力学諸量を含む。各相の圧力とエンタルピーを入力データとして、他の熱力学諸量を決定するために、この表は使用される。この決定の際、安定状態と準安定状態の量を計算できるように、RELAP4コードで使われているSTH20サブルーチンパッケージを改良した。外挿で得られた準安定領域には限界があるが、我々の計算で得られた準安定の限界は、実験で得られている水の最大過熱や蒸気の最大過冷却並びにファンデアワールス流体のスピノーダル線と比較して妥当な領域にある。

論文

Reaction of metastable Ar atoms with propylene in flow system

紫田 晶子*; 高橋 詢*; 大野 新一; 三国 均*

Bulletin of the Chemical Society of Japan, 54(3), p.678 - 684, 1981/00

放電により生成した準安定状態のAr原子($$^{3}$$P$$_{2}$$,$$^{3}$$P$$_{0}$$)とプロピレンの反応性生物:エチレン、エタン、プロパン、ブタジエンをガスクロマトグラフ法を用いて同定。N$$_{2}$$OおよびCO$$_{2}$$との競争による反応速度定数8.4$$times$$10$$^{-}$$$$^{1}$$$$^{0}$$cm$$^{3}$$・mole$$^{-}$$$$^{1}$$・S$$^{-}$$$$^{1}$$を決定。スピントラッピングESR法により反応中間体としてラジカルを経由することを結論する。

口頭

Time evolution of morphology and electronic state of oxidized Si(110) during reduction process

矢野 雅大; 魚住 雄輝*; 保田 諭; 朝岡 秀人

no journal, , 

We have observed time evolution of morphology and electronic state of oxide Si(110) during reduction process. We found metastable area and state by means of scanning tunneling microscope (STM) and X-ray photoemission spectroscopy (XPS), respectively.

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